拓荆聚焦薄膜沉积设备，突破海外垄断。 拓荆科技基本的产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已大范围的应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线。 公司核心技术人员具有海外设备厂商的丰富工作经验，带领公司PECVD 产品突破海外厂商垄断。

　　薄膜沉积设备市场空间大，拓荆具有一马当先的优势。 薄膜沉积设备约占前道半导体设备投资额的 25%，是半导体设备中的重要细分品类。 根据 Maximize MarketResearch 统计， 2020年全球薄膜沉积设备市场规模在 172亿美元，并预计 2025年达到 340亿美元，复合增速为 14.6%。 根据 Gartner 数据，在薄膜沉积设备市场中， PECVD 份额占比近三分之一。 2022年 1-5月，我们统计发现拓荆科技在国内薄膜沉积设备中标份额快速上升到 14%，领先于其他国内厂商。

　　进军先进制程， 公司慢慢成长为薄膜沉积平台型公司。 公司 IPO 募集资金将投资于高端半导体设备扩产项目、 先进半导体设备的研发技术与改进项目、 ALD 设备研发与产业化项目。 截至 2021年 9月，公司在国内外和别的地方已授权专利共计169件，核心技术有 8项，其中大部分专利和核心技术能在 PECVD、 ALD、SACVD 这三种产品上适用。公司募投项目的投资建设将逐渐增强公司在先进制程薄膜沉积设备的实力。

　　投资建议。 我们预计公司将在 2022年至 2024年实现收入 12.77/18.30/25.43亿元，对应当前 PS 估值 14.7/10.3/7.4倍；归母净利润 1.33/2.33/3.67亿元，对应当前 PE 估值 140.9/80.5/51.1倍。考虑半导体设备行业高增长、公司产品的稀缺性以及竞争实力，首次覆盖给予“买入”评级。

　　风险提示： 公司新产品研发进度没有到达预期、客户对公司设备验收周期过长、下游晶圆厂扩产放慢、半导体设备行业竞争加剧风险。

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